英特爾10nm製程量產之痛，目標有些「激進」

　　英特爾在最近的電話財報會議期間公布了其第一季度營收達到168億美元，同比增長16％。這一業績再創記錄，並且英特爾還將其全年業績目標提高至675億美元，比之前提高了25億美元。

　　不過，CEO 布萊恩·科再奇（Brian Krzanich）承認其10納米工藝製程「略有些激進」，還面臨生產問題，量產將推出到2019年的某個時間。因此，英特爾今年還將推出更多14nm的產品，包括台式機處理器Whiskey Lake和數據中心處理器Cascade Lake Xeons。

　　目標有些激進，10納米製程多次「跳票」

　　總的來說英特爾本季度表現很好，但其最初承諾在2015年交付的10納米製程，歷經多次延遲，至今仍未推向市場。近日的電話財報會議上英特爾宣布10納米產品的量產將推遲到2019年。

　　英特爾首席執行官Brian Krzanich一再強調英特爾正在小批量出貨Cannon Lake，但並未明確指出客戶或產品。正如我們在今年早些時候指出的那樣，延期看起來可能不重要，但英特爾自2015年以來就一直銷售Skylake架構的處理器，自2014年就停留在14納米製程。這意味著英特爾的同一過程經歷了第四（或第五）次迭代，這阻礙了其新架構推向市場。當然，這對經常聲稱製程技術領先競爭對手三年的公司而言並不是一個好兆頭。

　　據雷鋒網了解，與之前基於科學度量進行半導體製程節點的命名方式有所不同，近來搬到子製程的命名更多的偏向營銷，因此台積電的7納米與英特爾的10納米工藝並不完全相同。 不過，台積電正開始大批量生產7nm產品，這表明以台積電為代表的代工廠正在成功解決生產挑戰。

　　至於一再延期的原因，Krzanich解釋說，英特爾10納米製程在14納米製程上將晶體管密度增加2.7 倍的目標「略有些激進」。 相比之下，英特爾在升級到14納米時密度只增加了2.4倍。儘管數字差異看上去很小，但行業的平均值僅為1.5-2倍。 由於10納米製造的困難，英特爾已經將其密度目標修改為2.4倍，以便向7納米節點過渡，同時還將更多依靠其EMIB技術。

　　雷鋒網了解，在先進光刻技術中英特爾的10納米製程非同尋常，因為其決定完全放棄極紫外光刻（EUV），轉而採用傳統的 193nm 深紫外光源。不過，10納米也是英特爾基於傳統光刻技術的最後一個工藝，7納米節點將轉向EUV。儘管Krzanich沒有透露更多細節，但他指出該公司必須使用多達 5~6 個多模式的步驟去打造特定的 10納米特性，這或許是英特爾正在經歷的產能問題的一個主要因素。

　　正如今年早些時候格羅方德所說，硅晶片與光刻工具的每一次交互，都增加了缺陷的可能性，而多模式需要與這些工具進行大量的交互。格羅方德進一步指出，相比之下，EUV 不僅能夠更有效地利用產能，還能夠減少設備需要與晶圓片交互的次數。

　　儘管 EUV 自身也面臨挑戰，但在 7納米之前英特爾不會享受到任何潛在的優勢。Krzanich告訴分析師，英特爾計劃繼續保持 10nm 製程，以便積累有效製造 7nm 晶元所需的知識。

　　10納米量產或延遲到2019年下半年